光刻机尘埃落定，美荷纷纷对中企“亮剑”，美媒：中国芯彻底结束

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文|史这样滴

编辑|史这样滴

前言

光刻机作为芯片制造的核心设备，对制造高质量芯片有着最关键的作用。荷兰ASML公司在光刻机行业占据全球领先地位，是唯一能制造EUV光刻机的厂商。

可以说想要制造好的芯片，全球只能购买荷兰ASML公司的光刻机，但是中国曾试图购买EUV光刻机，却遭到美国的限制。

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中美芯片之争

在全球科技的战场上，中国华为与美国的对决在持续不断的上演，华为通过5G技术成功打入国际市场，并以先进的技术受到国际上的欢迎，华为5G也成为我国向外展示科技的最好成果。

但是随着华为市场的扩大，美国又坐不住了。身为科技强国的美国对华为深深感到了威胁，为了保住自己在全球科技地位的领先。美国拉着盟友对华为5G展开以芯片为主体的半导体行业竞争。

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在芯片科技领域，美国企业在全球芯片科技行业占据了大半江山，甚至持股国际上一半以上的芯片公司。

除了在芯片架构、工业设计上美国有着国际影响力，在芯片的供应、制造美国也拥有绝对的话语权，直到华为的到来中企逐渐打破了美国对于芯片行业垄断地位。

当美国发现中国华为快速崛起的时候，为了自己的利益，毫不犹豫的开展了贸易战，在针对中国企业上，制裁名单如雪花一样，一片片的打在中国的芯片行业。

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就在最近，为了阻止华为在科技领域的影响力，美国政府与荷兰政府达成协议，将进一步限制ASML公司光刻机对中企的出口，除了目前最顶级的6代EUV光刻机外甚至对4代DUV也要进行限制。美媒对此事也进行报道，并且嘲笑中国的光刻机水平落后世界20年。

在美国的施压下，日本公司也开始对中国进行了几十款光刻机的断供，荷兰ASML公司此前一直对中国保持合作，并且愿意为中国提供光刻机。可随着美国的施压，ASML态度发生极大转变，ASML公司最终还是与中国企业彻底翻脸了。

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美日荷三国近期对中国半导体行业实施的制裁给中国的芯片行业带来了很大的打击，对于这些制裁最关键的点还是荷兰ASML公司。

光刻机是芯片制造的核心，简单来说它是一种利用光学原理将芯片电路图案投射到硅片上的高精度设备。

光刻机的质量对芯片有着非常重要的影响，全球能真正掌握光刻机技术的企业也仅仅几家，其中荷兰ASML公司研制的EUV光刻机一直是世界最高科研产品的结合体。

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ASML公司崛起后，全球半导体制材料供应商为它大开绿灯，每个环节都与ASML公司紧密合作。不断推动光刻机技术的创新，为全球芯片制造都提供了强大的工具。

除此之外ASML制造了强大高效生产体系，这种高效的生产能力，推动了世界科技产业的发展。现在荷兰ASML公司的EUV光刻机可以产出4纳米的芯片，在质量、产出效率已经完全走在了世界最前沿。

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对于芯片而言，光刻机是最重要的，只要有了光刻机，就能顺利的自研芯片，加速国产芯片的发展。

在美国的一系列政策下，缺乏光刻机确实对中国芯片制造带来了很大影响。但是美国似乎低估了中国对于芯片的研发能力，仅凭着没有限制的光刻机，靠着科研人员的努力，使我国的芯片技术从36纳米推进到28纳米。这是非常令人瞩目的成绩。

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在美国联合日本、荷兰的协议中，目的就是限制可以制造28纳米的相关设施，28纳米芯片是国际上普遍运用最广的芯片。

随着中国“芯”制造出成熟28纳米芯片，成功保住了国际芯片行业的基本盘，今年还研发了最新的14纳米的芯片，新研发的14纳米芯片成本过高，目前还在进一步打磨。

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研发光刻机的困难

中国对芯片有着巨大需求，只有掌握自主的芯片制造能力，中国才能实现科技行业的稳步发展，我国需要通过自主研发和制造国产芯片满足国内需求，要进一步提高芯片科技的水平，保持在国际上的竞争力。

因此，目前中国急需解决的第一件大事就是光刻机问题，没有光刻机，芯片的研发难度会大大的提高，这也可以看出我国科研人员通过以前的光刻机制造出14纳米芯片是多么伟大的成就。

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光刻机的制造到底有多困难？光刻机是全球科技难度最高的产品，没有之一。一台完整的ASML光刻机，单零件就超过10万个，在这10万个零件代表了全球所有国家最先进的制造水平，目前没有一个国家可以单独制造出光刻机。

一台光刻机从组装出现一点点误差就可能导致芯片生产出现差错，工程师对于机器的调试一般都在1年以上，此外光刻机在各方面的配件都需要对应的设备保护，可以说光刻机的整体技术就不是一个国家能够做到的。

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现在中国光刻机面临着很多挑战，首先光刻机从制造到可以使用需要耗费巨大的成本，而制造出来的光刻机我国内部是很难全部消化的，只能依靠国际市场回收成本。

但从目前的情况来看，国外已经有了中高端光刻机的制造技术与市场，我国目前研发的光刻机始终留在低端市场。

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从建国到现在，我国半导体行业一直是短板，虽然我国一直在研究光刻机，但是在开发上始终只能达到低端水平，中高端光刻机依旧掌握在发达国家手中。但是最近我国对于国产光刻机的研发方面已经取得了一些进展。

我们国内开始对大力发展光刻机相关专业的人才，并且吸引多国优秀的科学家和工程师加入研发团队，同时在光刻机研究方面提供了大量的奖学金与津贴等多种激励政策，吸引优秀的年轻人从事光刻机事业，这可以看出中国在制造光刻机有着长期的决心。

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中国是全球第二大经济体，荷兰ASML公司因为美国不停的施压导致了失去中国市场，这也让ASML造成了很大的损失，其本质ASML是非常希望回到中国市场。

目前中国企业已经针对荷兰ASML公司遭遇的限制与困境入手，加大与荷兰ASML公司的合作，建立长期的联系。这样不仅可以保证芯片制造业所需的技术和零件等，还可以让中国芯片咬紧国际市场的同时提高对光刻机领域的研发创新力度，以此来增强国际竞争力。

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美国的制裁与中国的应对

除了针对光刻机领域，美国还采取了其它手段对中国企业进行打压。在芯片法案后，美日荷三国的厂商都曾试图绕开禁令限制，售卖不在制裁名单的产品，但是这些产品一经售卖就遭到美国政府的制裁，列入“出口管控清单”。

在面对美国一系列的政策下，中国芯片科技产业已经做好了准备，在公开信息中透露，国产光刻机已经实现了90纳米的量产能力，28纳米光刻机也进入了技术验证阶段。哈工大成功研发了EUV光刻机的DPP-EUV光源。

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对于现在中国企业的研发进度来看，荷兰ASML公司通过零件与技术等一些合作保持我国芯片科技的稳步提高，远远没有美媒说的那样走投无路。

我国是全球第二大经济体，美国坚持要与中国施行贸易战，不仅会影响全球半导体科技的进进步，还会给其它国家造成巨大的经济损失。严重影响了全球化的趋势。

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尽管外界媒体普遍对中国芯片的发展保持悲观态度，我们应该对内的努力自主创新，对外争取国际上更多的合作。

自21世纪以来，我国科技水平日新月异，在人工智能、量子通讯等等都做出了卓越的贡献。所有的技术需要市场，如果美国一定要拉着周边国家与中国市场“脱钩”，只会影响到与美国与其它国家的关系，将来必会遭到反噬。

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后记

从美国联合“盟友”却不顾“盟友”利益强行制裁我国，我们可以看出中美在科技上的较量已经进入的白热化，我国企业主动推动中国芯片的发展，在短时间内频频取得喜人的成果。尽管光刻机危机出现，美国政府强压荷兰ASML公司在光刻机问题上确实也给中国带来了压力。

但是我们相信在这些问题上中国企业只要正视差距，即使当前中国企业只能生产成熟的科技产品，但成熟的技术可以为未来打好基础后，等待未来国产光刻机的产业链一旦陈宫建立，就可以快速完善更先进的产品。

中国企业有充足的研发经费，有培养自己的科技人才也有各个的专家，更有庞大的市场，相信不将来，国产芯片必然可以打破美国的技术封锁，而且这个时间绝不会太久。

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研发光刻机的困难

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